中国硫酸清理洗涤设施逆袭日本巨头半导体清洗赛道一夜变天！

  近日，至纯科技的消息引起了半导体行业的热议，该公司的硫酸清理洗涤设施每小时可处理300片12英寸的晶圆，这一解决能力已经追平了日本迪恩士的水平。在半导体行业，晶圆的清洗是至关重要的一步，任何微小的杂质都可能会引起芯片生产的失败，因此各大厂商在这方面都投入巨资进行设备研发。

  至纯科技位于东方大国的硫酸清理洗涤设施能够赶上日本企业，说明东方大国在半导体设备制造领域又向前迈进了一大步，以往大家对东方大国半导体产业的印象就是技术跟不上，现在看来这种印象正在逐渐被改变。

  而另一家企业新凯来科技也正在半导体行业崭露头角，该公司采取了农村包围城市的战略，先攻克28nm DUV设备，再向7nm以下的EUV领域渗透。李博士表示新凯来研发的深紫外光刻（DUV）设备已经获得了华为联合实验室的认证，可以正式接入国产芯片制造的供应链中。

  这对于东方大国半导体产业来说无疑是一个重大利好，以往我们总是被迫依赖外国企业，现在自己研发的设备终于能派上用场了。

  新凯来在SEMICON China 2025展会上展示了其最新研发的DUV设备，该设备不仅得到了华为的认可，而且新凯来的年度业绩也因此迎来了爆发式的增长，根据公开资料显示，该公司的年度业绩增长了268倍，这样的增速在任何行业都是十分罕见的。

  此外，产业链上下游的协同发展也在帮助新凯来快速成长，芯片需求量大增，代工厂的订单源源不断地飞向新凯来，整个国产半导体产业正处于欣欣向荣的发展状态。

  除了新凯来以外，其他一些企业也有了新的进展，比如深圳的一家名不见经传的企业就悄悄攻克了高功率CO2激光器的技术，这一技术若能够量产，将会对东方大国半导体产业的发展起到极大的推动作用。

  激光器是光刻机中最重要的组成部分，目前全球能够生产光刻机的企业屈指可数，而其中最重要的就是ASML，这家荷兰企业每年的订单都排到要哭出来，因为它生产的EUV光刻机实在是太抢手了。

  激光器技术若能够攻克，很可能就从另一方面代表着我们可以自主研发光刻机了，这一条消息传出后立即引起了半导体行业的热议。

  与此长春光机所也带来了让人振奋的消息，该所展示的一款激光干涉仪的精度竟然能够达到0.1纳米级，这个数据几乎已经接近物理极限，对于半导体行业来说，无疑是一个重磅炸弹。

  我们知道，一个纳米大约有十亿分之一米，0.1纳米更是只有一个氢原子那么大，这样的精度几乎能忽略不计，在制造芯片的时候，如果说一个零件长短要使用到0.1纳米级的技术，这对于普通人来说几乎是不可想象的，但现在这个技术已被长春光机所攻克了。

  阿斯麦的CEO彼得·温宁克在财报会议上提到东方大国速度，表示他们对东方大国半导体产业的发展感到十分惊讶，因为短短几年的时间，东方大国在这一领域已经取得了令人刮目相看的成绩，这种速度以前只有在日本和韩国身上看到过，现在竟然出现在东方大国身上，令人十分期待。

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